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方矩管電鍍常見(jiàn)的的五種缺陷及解決方案

發(fā)表日期:2022年05月11日   信息來(lái)源:重慶豪門(mén)鐵花有限公司
今天就方矩管電鍍常見(jiàn)的的五種缺陷來(lái)談?wù)剬?duì)應(yīng)的解決方案。
(一)橘皮狀
鍍液PH太高,潤(rùn)濕劑過(guò)量時(shí),潤(rùn)濕劑易與Ni2+作用,生成不溶性的化合物,雜亂地吸附在方矩管表面上,造成鍍層厚薄不均。解決此問(wèn)題,可加入少量活性炭吸附掉部分潤(rùn)濕劑,過(guò)濾后再用稀硫酸調(diào)節(jié)PH至工藝規(guī)范。
(二)起皮起泡
產(chǎn)生的原因有三點(diǎn):(1)鍍液內(nèi)有Zn2+和N03-雜質(zhì)存在,不但使鍍層出現(xiàn)黑色條紋等現(xiàn)象,還會(huì)使鍍層內(nèi)應(yīng)力增大,造成鎳層脆裂,呈粉末狀脫落;(2)糖精是助光劑中的主要成分。自配助光劑時(shí),糖精加入太多,會(huì)造成鎳層內(nèi)應(yīng)力增大,致使鎳層起皮脫落;(3)鍍前處理不良。方矩管表面上有殘留的氧化皮等雜物,造成鎳層起皮起泡。
針對(duì)原因解決的方法也有三個(gè):1.加強(qiáng)前處理工作,嚴(yán)禁表面殘留氧化皮及油污;2.可用瓦楞鐵皮作陰極,在攪拌條件下以電解處理,直至除凈為止。除N03-時(shí),用大面積的陽(yáng)極、小面積的陰極,以大于l.4-dm2的電流密度電解1-2h后,再降至0.2A/dm2繼續(xù)電解,直至鍍層正常;3.用水稀釋鍍液,同時(shí)補(bǔ)充相應(yīng)量的主鹽、硼酸及主光亮劑。
(三)針孔麻點(diǎn)
產(chǎn)生原因有:(1)潤(rùn)濕劑太少。電極作用所產(chǎn)生的氫氣泡易停留在陰極表面,Ni2+在氫氣泡周圍不斷地放電沉積,鎳層逐步增厚:當(dāng)鎳層厚到氫氣泡無(wú)法承受時(shí),氣泡就自動(dòng)破裂,未沉積鎳層的氣泡部位,就出現(xiàn)凹坑,即針孔或麻點(diǎn);(2)泵內(nèi)有空氣。非連續(xù)性過(guò)濾的鍍槽,過(guò)濾器上的泵是移動(dòng)使用的,泵內(nèi)總會(huì)含有一定量的空氣,當(dāng)使用過(guò)濾器時(shí),泵內(nèi)殘留的空氣又未除盡,這些空氣隨泵的工作而進(jìn)入鍍層成為氣泡,造成與潤(rùn)濕劑太少而產(chǎn)生的相同故障;(3)鍍層內(nèi)有動(dòng)物膠、油污等有機(jī)雜質(zhì),這些無(wú)導(dǎo)電能力的有機(jī)雜質(zhì)會(huì)粘附在表面,Ni2+無(wú)法在其上放電沉積。未粘附有機(jī)雜質(zhì)的地方,鍍層繼續(xù)沉積增厚。如此一來(lái),便形成凹坑式的針孔或麻點(diǎn);(4)用濕潤(rùn)劑調(diào)節(jié)鍍液后,鍍層仍有麻點(diǎn)出現(xiàn),這時(shí)就要考慮是否Fe3+含量太多。Fe3+在鍍液中成膠體狀,很難過(guò)濾除去,當(dāng)它附著在方矩管表面時(shí),鍍層就出現(xiàn)麻點(diǎn)。

解決故障的方法有:(1)以赫爾槽試驗(yàn)數(shù)據(jù)作為補(bǔ)充潤(rùn)濕劑的依據(jù);(2)鍍液過(guò)濾之前,應(yīng)用濾液或去離子水除去泵內(nèi)空氣;(3)除有機(jī)雜質(zhì)時(shí),先用2-3mL/L的H202氧化液內(nèi)的有機(jī)雜質(zhì)。然后在攪拌條件下將2-3g/L的粉狀活性炭加入液內(nèi),并加溫至60-70℃,繼續(xù)攪拌0.5h,靜置3,4h或過(guò)夜:過(guò)濾,試鍍;(4)除Fe3+雜質(zhì)。將鍍液加溫至60-70℃,然后加入已用熱水溶解好的0.5-1.0g/L的硫酸鉛,攪拌1h:再加入2—5g/L的活性炭,繼續(xù)攪拌1h。

方矩管

(四)鍍層不亮
方矩管鍍層不亮的原因有三個(gè):(1)光亮劑太少,主鹽含量太低,陽(yáng)極板太短太少,鎳離子的沉積速度與遷移速度達(dá)不到平衡,致使鍍層光亮度不足;(2)PH和溫度太高。此時(shí)主鹽易水解成Ni(OH)2沉淀,部分Ni(OH)2夾雜在鍍層中,造成鍍層光亮度不足;(3)酸性鍍銅后未洗凈,此時(shí)表面上有一層堿性膜,鎳沉積在膜層上,致使鍍層達(dá)不到鏡面光亮。

解決的方法是:1. 酸性鍍銅后應(yīng)徹底洗凈,必要時(shí)可用稀硫酸除膜;2.用稀硫酸調(diào)節(jié)PH,降低溫度至工藝規(guī)范;3.補(bǔ)充主光亮劑,相應(yīng)地也需補(bǔ)充助光劑。按工藝要求調(diào)整主鹽及其它組成,增加陽(yáng)極鎳板。

(五)鎳層易燒焦

鎳沉積的過(guò)程中,失去Ni2+的量與遷移到陰極附近的Ni2+量需達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡。但是由于主鹽太少,溫度太低,很低濃度的Ni2+在低溫條件下只能緩慢地遷移到陰極附近放電沉積。同時(shí)PH太高使本來(lái)就很稀少的Ni2+還有部分生成微溶于水的淺綠色Ni(OH)2沉淀,造成鍍液中Ni2+更少。在大電流密度作用下,陰極附近的正負(fù)離子達(dá)不到平衡,致使方矩管鍍層燒焦。所以要按分析報(bào)告補(bǔ)充主鹽,提高鍍液溫度,用稀硫酸調(diào)節(jié)PH至工藝規(guī)范,過(guò)濾鍍液,適當(dāng)調(diào)整電流密度。
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